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谈谈SiO_2的浮选

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摘要 前言在半导体器件的研制过程中,硅单晶片的抛光是一个极为重要的工艺环节;抛光质量的优劣直接影响着器件的成品率和优品率。采用 SiO2抛光的镜面质量好,机械损伤少,因此这种工艺得到了迅速的发展和应用。
作者 于长太
出处 《半导体光电》 CAS 1980年第1期64-65,89,共3页 Semiconductor Optoelectronics
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