金属有机化学汽相淀积技术

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摘要本文主要介绍MOCVD技术。以实例对MOCVD技术与LPE技术、氯化物CVD和MBE技术进行了比较。评价了MOCVD技术在半导体光电器件制备领域内的作用。

作者张道银程泰平

机构地区重庆光电技术研究所

出处《半导体光电》 CAS 1987年第2期-,共8页 Semiconductor Optoelectronics

关键词 MOCVD 半导体光电器件激光器光激射器电子器件外延层氯化物卤化物 GaAs 载流子浓度载流子密度 LPE 外延生长晶体生长

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半导体光电

1987年第2期

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