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光刻技术
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摘要
本文介绍了IC生产用的光刻技术。文中着重叙述了接触曝光方式、等倍投影曝光和缩小投影曝光方式的光学系统、适用范围、优缺点等。最后叙述光刻技术的发展动向。
出处
《半导体光电》
CAS
1987年第2期-,共4页
Semiconductor Optoelectronics
关键词
光刻技术
圆片
投影曝光
掩模
抗蚀剂
分类号
TN3 [电子电信—物理电子学]
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半导体光电
1987年 第2期
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