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光刻技术

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摘要 本文介绍了IC生产用的光刻技术。文中着重叙述了接触曝光方式、等倍投影曝光和缩小投影曝光方式的光学系统、适用范围、优缺点等。最后叙述光刻技术的发展动向。
出处 《半导体光电》 CAS 1987年第2期-,共4页 Semiconductor Optoelectronics
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