V形槽的腐蚀及其应用被引量：2

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摘要本文简要地回顾了腐蚀V形槽的几种方法。并以联氨(N_2H_4)腐蚀V形槽工艺为主,结合半导体硅的结构报告了腐蚀方法,及达到最佳化的条件。并指出了此工艺的应用。

作者孙彦卿石广元

机构地区辽宁大学物理系

出处《半导体技术》 CAS 1981年第4期19-24,共6页 Semiconductor Technology

关键词晶面低指数面(晶体) 晶种腐蚀液窗孔各向异性腐蚀联氨氮化合物钻蚀单晶晶形掩模版腐蚀速率硅片凸角

同被引文献3

1李会云,张小迪.化工压力容器用钢应力腐蚀行为研究[J].铸造技术,2018,39(3):723-726.
2但佳永,周和荣,刘鹏洋,姚望.氧化温度和冷凝液硫含量对SUS441铁素体不锈钢晶间腐蚀行为的影响[J].武汉科技大学学报,2018,41(2):88-93. 被引量：1
3黄信凡,李联珠,高文琦,叶权书.利用硅上倾斜V形槽结构制作闪耀光栅[J].光学学报,1988,8(1):89-92. 被引量：3
4王通,宋纯龙,韩升利,崔成云,于强,吴家杰.贴壁风缓解和解决锅炉炉内高温腐蚀[J].锅炉制造,2018(1):13-16. 被引量：6
5水玻璃耐酸砼在我厂的应用[J].上海化工,1974,0(S1):40-42.
6D.C.D'avanzo,章征龙.扩散杂质分布对VMOS和DMOS器件的直流特性的影响[J].微纳电子技术,1978,37(3):55-62.
7孙杏蕾,王振尧,王纳新,张恒,瞿华盛.汽车材料大气腐蚀和实验室加速循环腐蚀试验方法的相关性研究[J].上海涂料,2018,56(2):9-12. 被引量：4
8霍玉林.国外肼类燃料治理概况[J].中国航天,1985(4):39-43.
9卞玉民,鲁磊,杨拥军.一种基于微熔技术的MEMS大量程压力传感器[J].微纳电子技术,2018,55(6):422-427. 被引量：5
10林来存,王启东,邱德龙,伍恒,薛恺,于大全,曹立强.基于光敏玻璃的垂直互连通孔仿真与电镀工艺研究[J].北京理工大学学报,2018,38(1):52-57. 被引量：13

半导体技术

1981年第4期

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