华虹NEC 0.13/0.18μm SiGe工艺技术成功进入量产

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摘要日前,世界领先的纯晶圆代工厂之一,上海华虹NEC电子有限公司(以下简称"华虹NEC")宣布其最新研发成功、处于业界领先地位的0.13/0.18μm SiGe工艺技术进入量产。由此成为国内首家、全球少数几家可以提供0.13/0.18μmSiGe量产工艺的代工厂之一。该新型SiGe工艺平台包括0.13μm SiGeBipolar及0.18μm SiGe

作者赵佶

出处《半导体信息》 2013年第1期21-22,共2页 Semiconductor Information

关键词 SIGE 工艺技术晶圆代工厂射频前端光通讯手机通讯器件性能无线路由器件模型客户选择

分类号 TN305 [电子电信—物理电子学] F426.63 [经济管理—产业经济]

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