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日立化成开发出可蚀刻SiN的浆料用于太阳能电池等领域
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摘要
日立化成开发出了可蚀刻氮化硅(SiN)的浆料,并在第12届国际纳米技术综合展(nano tech 2013)上展出。只要利用丝网印刷工艺使该浆料成形,便可只去除浆料下面的SiN。日立化成的目标是将这种浆料用于太阳能电池及MEMS制造工序等。在结晶硅型太阳能电池的制造工序中。
作者
郑冬冬
出处
《半导体信息》
2013年第2期24-24,共1页
Semiconductor Information
关键词
SIN
硅电池
制造工序
结晶硅
丝网印刷工艺
纳米技术
氮化硅
反射膜
综合展
单元的
分类号
TM914.4 [电气工程—电力电子与电力传动]
F416.6 [经济管理—产业经济]
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