中微确立存储晶片干法蚀刻领域市场地位

中微半导体设备有限公司（以下简称"中微"）称已研发成功第二代单反应台等离子体蚀刻设备(PrimoSSCAD-RIETM)。该设备能够用于加工要求最为严格的半导体器件。在不到一年的时间里,中微的PrimoSSCAD-RIETM蚀刻设备在韩国领先的半导体制造企业中完成了20纳米及以下关键闪存晶片的生产验证。该韩国客户已正式下单订购,目前正在进行15纳米晶片蚀刻的验证。此前。