三星：GAA FET与EUV是半导体领域下一代重要突破

日前,三星半导体博客刊发了一篇TECHnalysis Research公司总裁兼首席分析师Bob O’Donnell的文章,他提出了他对于过渡到全新Gate-All-Around晶体管结构的看法。通过重新思考和重新构建基本的晶体管设计,Bob认为技术行业可以期待几代工艺技术的改进,同时减少半导体尺寸和功率要求,以及提高半导体性能。