摘要
利用叶绿素荧光技术,以胡椒实生苗为研究对象,设置了5%,10%、15%、20%、25%和30%共6个土壤质量含水量处理,测定了试验开始后第1、3、5、8、14d不同处理的叶绿素荧光参数以及第14d时植株相关生长指标,以期明确适宜胡椒生长的土壤含水量范围。结果表明,不同叶绿素荧光参数对胁迫的响应时间存在差异,但自第3~5d开始,叶绿素荧光参数逐步表现为5%、10%和30%处理的叶绿素基础荧光(F_0)、非光化学淬灭(NPQ)大于15%、20%和25%处理,而最大荧光(F_m)、PSⅡ实际光能转换效率(F_v'/F_m)、光化学淬灭(qP)、电子传递速率(ETR)则呈相反趋势,且在第14d上述差异均达到显著水平。对比植株生长指标发现,经过14d处理,仅5%处理在植株干重、植株含水量和叶片SPAD值等生长指标显著低于其他处理,其他处理之间没有显著差异。上述结果表明,适宜胡椒生长的土壤质量含水量范围为15%~25%,土壤水分含量过低或过高形成的干旱或渍水胁迫均会造成胡椒叶片光合结构破坏,降低叶片光保护能力和光合能力,从而影响胡椒生长;与传统生长指标法相比,叶绿素荧光技术能够在短时间内有效表征逆境胁迫对胡椒生长的影响,可作为今后胡椒抗逆研究中快速测定方法。
出处
《中国热带农业》
2015年第6期53-57,共5页
China Tropical Agriculture
基金
海南省自然科学基金(No.314133)