微纳米结构的电驱动模塑成形工艺及其界面物理行为研究

纳米压印技术具有低成本、高效率、高分辨率的优势,被国际半导体技术路线图（I T R S）列为22n m以下节点集成电路制造的候选技术之一,被工业界寄予了厚望。尽管纳米压印理论上可以等比例复制任意模板结构,但是压印载荷的存在会引起纳米结构变形和位置偏移,制约了纳米压印技术的产业化应用。