期刊导航
期刊开放获取
河南省图书馆
退出
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
第十九讲 真空溅射镀膜
下载PDF
职称材料
导出
摘要
(接2015年第6期第80页)(1)磁控溅射的放电特性磁控溅射放电均为低压等离子体放电,各种阴极靶的放电电流—电压特性基本一致。随着放电电流的增加,放电电压均需要增高;随着工作气压的增高,放电电压下降;磁场对放电特性有影响。
作者
张以忱
机构地区
东北大学
出处
《真空》
CAS
2016年第1期77-80,共4页
Vacuum
关键词
磁控溅射
溅射镀膜
放电特性
放电电压
等离子体放电
电压特性
溅射功率
放电电流
镀膜过程
磁场力
分类号
O484 [理学—固体物理]
TB4 [一般工业技术]
引文网络
相关文献
节点文献
二级参考文献
0
参考文献
0
共引文献
0
同被引文献
0
引证文献
0
二级引证文献
0
1
傅强,彭堂超.
不同衬底上ZnO薄膜的射频磁控溅射制备及结构[J]
.中国材料科技与设备,2009,6(4):51-52.
2
张以忱.
第十九讲 真空溅射镀膜[J]
.真空,2014,51(2):78-80.
被引量:1
3
黄筱玲,田跃,邱宏.
将溅射镀膜及薄膜生长动态监测技术引入普通物理实验[J]
.物理实验,2005,25(5):28-30.
被引量:11
4
张以忱.
第十九讲 真空溅射镀膜[J]
.真空,2016,53(5):78-82.
5
张以忱.
第十九讲 真空溅射镀膜[J]
.真空,2016,53(3):78-80.
6
侯士敏,申自勇,赵兴钰,薛增泉,吴全德.
接触——纳电子器件的关键[J]
.真空科学与技术学报,2004,24(4):241-244.
被引量:2
7
张以忱.
第十九讲 真空溅射镀膜[J]
.真空,2017,54(1):78-80.
8
许俊芬,居建华,戴雯琦,夏义本.
类金刚石薄膜中杂质Fe对其力学性能的影响[J]
.功能材料,2000,31(1):53-55.
9
张以忱.
第十九讲 真空溅射镀膜[J]
.真空,2016,53(4):79-80.
10
张苏淮,魏文忠,杨晖.
靶形对溅射薄膜厚度均匀性影响的研究[J]
.武汉大学学报(自然科学版),1992(3):43-47.
被引量:3
真空
2016年 第1期
职称评审材料打包下载
相关作者
内容加载中请稍等...
相关机构
内容加载中请稍等...
相关主题
内容加载中请稍等...
浏览历史
内容加载中请稍等...
;
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部