7产品名称：双反应台刻蚀除胶一体机Primo iDEA

研制单位： 中微半导体设备（上海）有限公司 产品介绍： 中微公司的双反应台刻蚀除胶一体机PrimoiDEA 源于中微的一个新理念，即：将一个或两个双反应台D—RIE或AD—RE工艺模块、远程等离子体源下游除胶器（DsA）反应腔整合在同一个平台上。