上颔窦提升过程中的膜穿孔：常见及可能的风险因素的回顾性研究

Perforation of the Sinus Membrane During Sinus Floor Elevation： A Retrospective Study of Frequency and Possible Risk Factors

目的：分析上颌窦提升过程中上颌窦黏膜穿孔的概率，并评估其可能的风险因素。材料和方法：对77例行侧壁开窗上颌窦底提升的病例进行回顾性分析。通过临床及X线片评价影响上颌窦黏膜穿孔的潜在风险．并将研究分为3组：患者相关性因素（年龄、性别、吸烟史），手术相关性因素（手术程序、部位、区域、位点、技术），上颌窦相关性因素（上颌窦间隔有无及高度．剩余牙槽嵴高度，上颔窦外侧壁的厚度，上颌窦腔的大小，上颌窦黏膜的厚度及状态）。结果：上颌窦黏膜穿孔率在下列几项因素中显示出至少10％的差异吸烟者（46．2％）VS不吸烟者（23．4％），同期种植（32％）VS分阶段种植（18．5％）．前磨牙-磨牙混合位点（412％）VS前磨牙位点（16．7％）VS磨牙位点（262％）．有上颌窦间隔（429％）VS无上颌窦间隔（238％）．剩余牙槽嵴高度≤4mm（34．2％）VS剩余牙槽嵴高度〉4mm（205％）。除了剩余牙槽嵴高度外，其余参数同样显示出0R值大于2，但是无统计学差异。结论：本研究显示上颌窦侧壁开窗行上颌窦提升中，不存在导致上颌窦黏膜穿孔风险增加的因素。