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第十九讲 真空溅射镀膜
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摘要
(接2016年第1期第80页)b.组合磁路改进磁场结构,用组合磁场代替传统的单一磁场,其目的是更有利于放电的稳定(离化率高)和增宽靶材的刻蚀区,提高靶材的利用率。图42是传统磁控源的磁场结构原理图。为单一磁路系统,磁力线的方向都是垂直靶面的,依靠磁力线在空间弯曲,
作者
张以忱
机构地区
东北大学
出处
《真空》
CAS
2016年第2期78-80,共3页
Vacuum
关键词
溅射镀膜
磁场结构
真空
组合磁路
磁路系统
空间弯曲
磁力线
利用率
分类号
O484 [理学—固体物理]
TB4 [一般工业技术]
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