摘要
Y98-61303-159 9904264在由低能量离子注入形成的 SiO<sub>2</sub>薄膜中 Sn 毫微晶体的单电子电荷=Single electron charging of Sn nanocrys-tals in thin SiO<sub>2</sub> film formed by low energy ion implanta-tion[会,英]/Nakajima,A.& Futatsugi,T.
出处
《电子科技文摘》
1999年第4期7-9,共3页
Sci.& Tech.Abstract
