摘要
Y98-61303-467 9905949硼的硼增强扩散:超浅结的限制因数=Boron-en-hanced-diffusion of boron:the limiting factor for ultra-shallow junctions[会,英]/Agarwal,A.& Eaglesham,D.J.//1997 IEEE International Electron Devices Meet-ing.—467～470(AG)
出处
《电子科技文摘》
1999年第5期37-38,共2页
Sci.& Tech.Abstract
