半导体材料

本文集为薄膜工艺与材料专辑。收录的9篇论文主要涉及:SrAl2O4:Eu 薄膜的制作与热刺激发光特性,基于溅射法的二氧化钛薄膜的形成,基于溅射法的ITO 薄膜的低温成膜法,采用聚合堆积法的 Fe 颗粒的磁性体的新规合成,磁记录媒体用 Cr 衬底膜的微细结构控制法的研究,（001）Si 与（111）Si 上的 Al/HfH 积层膜的连续单取向生长条件的研究,介于 Cu/SiO2间的 V-N 膜的界面反应与扩散动态,Cu/Si 接触系中的Ti-Zr-N 扩散势垒的应用,等离子重合乙烯薄膜的交流绝缘薄膜以及涉及直流电气传导的电极效果等。