真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺

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出处《电子科技文摘》 2000年第2期28-28,共1页 Sci.& Tech.Abstract

关键词真空蒸发金属化工艺真空磁控溅射功能材料磁控溅射器多层膜射线衍射分析膜厚分布电子技术氧化

分类号 TN [电子电信]

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1叶志镇.S枪磁控溅射的发射特性与基板上的膜厚分布[J].激光与红外,1989,19(3):45-48.
2晓青.圆筒磁控溅射装置[J].等离子体应用技术快报,1996(1):9-10.
3张利春,高玉芝,宁宝俊,洪秀花,王阳元.CoSi_2/n—Si肖特基势垒的形成和特性[J].Journal of Semiconductors,1993,14(1):48-55. 被引量：3
4闵子建.真空磁控溅射高压稳流源的研制[J].首都师范大学学报（自然科学版）,1997,18(S1):52-54. 被引量：1
5应春,沈杰,唐沪军,杨锡良,章壮健.高效率平面磁控溅射器的研制[J].真空科学与技术,1996,16(6):402-408. 被引量：4
6黄士勇,王德苗,曲风钦,苗晔.大型旋转圆柱形磁控溅射器[J].真空电子技术,1998,11(4):39-41. 被引量：1
7YU PingSheng,SU LiangBi,TANG HuiLi,GUO Xin,ZHAO HengYu,YANG QiuHong,XU Jun.Study on photoluminescence of thermally treated Bi_(12)GeO_(20) and Mo:Bi_(12)GeO_(20) crystals[J].Science China(Technological Sciences),2011,54(5):1287-1291. 被引量：1
8真空蒸发、淀积、溅射、氧化与金属化工艺[J].电子科技文摘,2000(6):34-35.
9徐建萍,石少波,李岚,张晓松,王雅欣,陈希明.Effects of Annealing Temperature on Structural and Optical Properties of ZnO Thin Films[J].Chinese Physics Letters,2010,27(4):227-230. 被引量：2
10宋德生,刘长春,陈恒隽,苏东坡,傅志勇.Structure and Semiconducting Character of a Polymeric Iodoplumbate Coordination Complex[J].Chinese Journal of Structural Chemistry,2011,30(8):1142-1146.

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