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制版、光刻、腐蚀与掩模工艺

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摘要 0005792改进定标曝光场的对准精度[刊,译]//电子工业专用设备.—1999,(4).—51～56(A)00057930.30μmi 线光刻的精确套准控制[刊.译]//电子工业专用设备.—1999,(4),—42～46(A)

出处《电子科技文摘》 2000年第4期38-38,共1页 Sci.& Tech.Abstract

关键词专用设备电子工业光学光刻技术对准精度腐蚀移相掩模技术制版工艺定标极紫外光刻技术

分类号 TN [电子电信]

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