掺杂、扩散、离子注入工艺

Y2000-62315 00144791998年 IEEE 离子注入技术国际会议录,卷1=1998IEEE proceedings of international conference on ion im-plantation technology,Vol.1[会,英]/IEEE ElectronDevices Society.—IEEE,1999.—671P.(EC)本会议录为于1998年6月22～26日在日本 Ky-oto 召开的离子注入技术研讨会两卷论文集的第1卷,共收录会上发表的39篇论文,内容涉及半导体器件与工艺的发展趋势,先进的注入系统,工艺控制。