摘要
0101853SiO<sub>2</sub>涂层结构对 Cu<sub>70</sub>Ni<sub>30</sub>熔体过冷遗传性的影响[刊]/郭学锋//西安理工大学学报.—2000,16（2）.—129～132（D）Y2000-62474-697 0101854利用5级多晶硅表面微机械加工技术制成的低压旋转式激励器=A low-voltage rotary actuator fabricated us-ing a five-level polysilicon surface micromachining tech-nology[会,英]/Krygowski.T.W.& Rodgers.M.S.//1999 IEEE International Electron Devices Meet-ing.—697～700（PC）
出处
《电子科技文摘》
2001年第2期7-7,共1页
Sci.& Tech.Abstract
