摘要
Y2000-62422-125 0105361采用放射性同位素示踪物对超薄键合绝缘体上硅硅片中铜扩散进行研究=Study of Cu diffusion in ultra thinbonded SOI wafers evaluated by using radioactive Isotopetracers[会,英]/Furihata,J.-I.& Nakano,M.//1999IEEE International SOI Conference Proceedings.—125～156(EC)
出处
《电子科技文摘》
2001年第3期163-163,共1页
Sci.& Tech.Abstract
