摘要
0107590VLSI 制作过程中 A1配线可靠性控制[刊]/郭佳惠//电子器件.—2000,23(3).—196~199(L)本文主要讨论 A1配线可靠性的控制方法及溅射过程中真空度对 A1膜淀积质量的影响,运用 QMass监控溅射过程系统基本真空控制 A1膜质量。参20107591从 IC 卡的技术特性看其在综合性应用中的优势[刊]/冯晓君//计算机工程.—2000,26(12).—190~191,193(D)从分析 IC 卡的特性入手,介绍了 CPU 卡文件系统的特点以及 CPU 卡在实际应用中的优势。
出处
《电子科技文摘》
2001年第5期18-19,共2页
Sci.& Tech.Abstract