摘要
Y2002-63059-469 0210737IC制造工艺扩展方案限制:器件制作和电路性能说明=Extending resolution limits of IC fabrication technolo-gy:Demonstration by device fabrication and circuit per-formance〔会,英〕/Nalamasu,O.//2001 IEEE the 14thInternational Conference on VLSI Design.-469(E)
出处
《电子科技文摘》
2002年第6期43-44,共2页
Sci.& Tech.Abstract
