热处理与表面处理工艺

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摘要 0217423真空感应熔炼 CCr25合金氧含量的影响因素[刊]/张程煜//真空科学与技术学报.—2002,22（2）.—157～159,162（L）0217424真空退火对 LiF 和 CaF<sub>2</sub>薄膜结晶性能的影响[刊]/万媛//真空科学与技术学报.—2002,22（2）.—146～148（L）研究了真空退火对玻璃衬底上热蒸发沉积的 LiF和 CaF<sub>2</sub>薄膜的结晶性能的影响。X

出处《电子科技文摘》 2002年第9期24-24,共1页 Sci.& Tech.Abstract

关键词表面处理工艺结晶性能真空感应熔炼真空科学程煜蒸发沉积真空退火玻璃衬底射线衍射分析氧含量

分类号 TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]

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