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光学、显示与发光材料

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摘要 Y2002-63234-215 0300129抗腐蚀剂用基准193nm 光致抗蚀剂=Benchmarking193nm photoresists for etch resistance[会,英]/Bakshi,V.&Smith,G.//2001 IEEE International Symposiumon Semiconductor Manufacturing.—215~218(E)
出处 《电子科技文摘》 2003年第1期9-9,共1页 Sci.& Tech.Abstract
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