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光学、显示与发光材料
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摘要
Y2002-63234-215 0300129抗腐蚀剂用基准193nm 光致抗蚀剂=Benchmarking193nm photoresists for etch resistance[会,英]/Bakshi,V.&Smith,G.//2001 IEEE International Symposiumon Semiconductor Manufacturing.—215~218(E)
出处
《电子科技文摘》
2003年第1期9-9,共1页
Sci.& Tech.Abstract
关键词
发光材料
抗腐蚀剂
光致抗蚀剂
单模光纤
波导色散
交叉相位调制
高斯函数
拉盖尔
稳定性分析
汉克尔变换
分类号
TN253 [电子电信—物理电子学]
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