光学、显示与发光材料

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摘要 0311770照相材料与纳米技术[刊]/骆小红//信息记录材料,—2003,4(1),—59～62(C)0311771成像传感介质的现状及发展趋势[刊]/晏磊//信息记录材料,—2003,4(1),—29～32(C)介绍了成像用介质及发展趋势,比较了化学感光成像和CCD成像各自的优缺点,在研究的基础上论证了磁成像技术的可行性。

出处《电子科技文摘》 2003年第6期8-9,共2页 Sci.& Tech.Abstract

关键词发光材料纳米技术记录材料抗蚀剂照相材料功能材料长余辉双包层发展趋势性质优良

分类号 TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]

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