超紫外线光刻技术浮出水面

有消息称,使用超紫外线光刻技术(EUV)的芯片制造机器在实验室揭开面纱。如果这项技术走出实验室,它有望维持芯片处理能力的持续提高的期限再延长30年。这种超紫外线光刻技术能够将芯片的规格缩小到0.03微米,其技术关键在于紫外光的波长,因为超紫外光有较短的波长,能够将小尺寸的电路蚀刻在硅薄片上。但这种不可见光能够被空气和聚焦透镜吸收,因此必须在真空状态下进行操作。从九十年代开始,英特尔公司。