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Mentor增强7nm工艺初期设计开发

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摘要 Mentor Graphics藉由完成台积电(TSMC)10nmFinFETVl.0认证,进一步增强和优化Calibre平台和AnalogFastSPICE(AFS)平台。除此之外,Calibre和AnalogFastSPICE平台已可应用在基于TSMC7nmFinFET工艺最新设计规则手册(DRM)和SPICE模型的初期设计开发和IP设计。
出处 《中国集成电路》 2016年第5期14-14,共1页 China lntegrated Circuit
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