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我国有了光刻机核心技术
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摘要
对于普通人来说,光刻机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术的锻造。从清华大学获悉,国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”通过验收,使我国成为少数能研制光刻机双工件台这一超精密机械与测控技术领域尖端系统的国家之一。
出处
《电子工业专用设备》
2016年第5期49-49,57,共2页
Equipment for Electronic Products Manufacturing
关键词
光刻机
科技重大专项
超精密
核心装备
系统样机
掩模
华兴
图形制作
图像分辨率
头发丝
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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电子工业专用设备
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