WILEY化学气相沉积（CVD）聚合物有机物表面改性和有机电子器件的制备

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摘要化学气相沉积（CVD，ChemicalVaporDeposition）是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。CVD法是传统制备薄膜的技术，其原理是利用气态的先驱反应物，通过原子、分子间化学反应，使得气态前驱体中的某些成分分解，

作者彭金平

机构地区国家纳米科学中心

出处《国外科技新书评介》 2016年第3期14-15,共2页 Scientific & Technology Book Review

关键词化学气相沉积有机电子器件表面改性制备有机物聚合物半导体工业 CVD法

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2016年第3期

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