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IC封装工艺中在线式等离子清洗的工艺优化 被引量:3

The Optimization of In-line Plasma Cleaning in IC Packaging Process
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摘要 封装质量的好坏将直接影响到电子产品成本及性能,在IC封装中,有约1/4器件失效与材料表面的污染物有关,如何解决封装过程中存在的微颗粒、氧化层等污染物,提高封装质量变得尤为重要。本文进行了在线式等离子清洗的工艺优化,能够有效解决封装过程中由于污染物存在所导致的各种问题,提高封装质量及产品性能。 The quality of package directly affects the cost and performance of electronic products. In the IC package,there is the failure of the 1 /4 device to be related to the contamination of the material surface. It is particularly important on how to solve the problem of existence of the micro particles,oxide and other pollutants during the packaging process and improve the quality of packaging.In this paper,the on- line plasma cleaning process is optimized,which can effectively solve various problems caused by the presence of contaminants in the packaging process and improve the packaging quality and product performance.
作者 王大伟
出处 《山西电子技术》 2016年第3期53-54,82,共3页 Shanxi Electronic Technology
关键词 IC封装 工艺优化 等离子清洗 IC package process optimization plasma cleaning
  • 相关文献

参考文献3

  • 1Polack, et al. Plasma Chemistry [M]. Chambridge Interna- tional Scientific Publishing, 1998.
  • 2温俊祥.电浆处理技术[J].工业材料杂志,2003(5).
  • 3张国柱,杜海文,刘丽琴.等离子清洗技术[J].机电元件,2001,21(4):31-34. 被引量:28

共引文献27

同被引文献19

引证文献3

二级引证文献1

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