化学镀铜

申请号201280061616．9公开日2014．09．10 申请人朗姆研究公司地址美国加利福尼亚州提供了一种用于提供化学镀层方法。通过提供含有烃、H2和无氧稀释剂的沉积气体流，从该沉积气体形成等离子体，以及停止该沉积气体的流动，在低k介电层上形成无定形碳阻挡层。通过提供含有H2和稀释剂的调节气体流，从该调节气体形成等离子体，该等离子体调节无定形碳阻挡层的项表面。