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半导体刻蚀设备中真空系统的设计优化
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摘要
针对半导体刻蚀设备中的真空系统部分进行探究,具体介绍在真空系统设计过程中泵/阀门的选取、慢抽过程的应用、防冷凝方案等,并对抽气性能优化进行了一些研究,以实现真空系统对半导体刻蚀设备提供最优化的压力控制。
作者
陈妙娟
机构地区
中微半导体设备上海有限公司
出处
《机电信息》
2016年第21期128-130,共3页
关键词
刻蚀设备
真空系统
真空泵
优化
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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