第十九讲 真空溅射镀膜

（接2016年第3期第80页）由于工作时是匀速旋转的,因而不但溅射更加均匀,靶材利用率也大大提高,一般的平面磁控溅射靶的靶材利用率极低（不足20%）,而这种结构靶材利用率超过70%。