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半导体产业中重要一环 EUV光刻最新进展如何

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摘要 ASML宣称它的Q2收到4台EUV订单,预期明年EUV发货达10台以上。EUV光刻设备一再延迟,而最新消息可能在2020年时能进入量产,而非常可能应用在5nm节点。业界预测未来在1znm的存储器生产中可能会有2层或者以上层会采用它,及在最先进制程节点(7 or 5nm)的逻辑器件生产中可能会有6-9层会使用它。
出处 《半导体信息》 2016年第4期27-28,共2页 Semiconductor Information
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