摘要
通过介绍不同气源和相关工艺参数(温度、功率等)对MPCVD法制备纳米金刚石的影响,并对部分学者的研究成果进行简述。然后简要概括了MPCVD纳米金刚石在各种窗口、宽禁带半导体功率器件以及生物医学中的应用,最后对纳米金刚石未来的发展做出展望。
This paper is mainly about the different gas source and related process parameters(like temperature,power,etc.)of MPCVD preparing nano-diamond,and gives a brief description of results of some scholars' researches. Then,this paper summarizes the applications of MPCVD nano-diamond in various windows,wide band gap semiconductor power devices and biomedical applications. Finally,we prospect the future development of nano-diamond.
出处
《真空与低温》
2016年第5期254-259,共6页
Vacuum and Cryogenics
基金
湖北省教育厅科学技术研究计划优秀中青年人才项目(No.Q20151517)
武汉工程大学科学研究基金项目(No.K201506)
关键词
微波等离子体
化学气相沉积
纳米金刚石薄膜
应用
microwave plasma
Chemical Vapor Deposition
nanocrystalline diamond thin film
development