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泛林集团推出电介质原子层刻蚀工艺支持先进逻辑器件制造

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摘要 最新Flex系统提供业界首创的电介质原子层刻蚀(ALE)生产工艺并已应用于量产。
出处 《半导体信息》 2016年第5期17-18,共2页 Semiconductor Information
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