期刊文献+

石墨烯晶体管工艺新方法获美国专利授权 被引量:1

下载PDF
导出
摘要 中国电子科技集团公司第十三研究所专用集成电路国家级重点实验室石墨烯团队自主研发的低损伤自对准石墨烯晶体管制备工艺获得美国专利授权。
作者 蔚翠
出处 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2016年第12期959-959,共1页 Semiconductor Technology
  • 相关文献

同被引文献22

引证文献1

二级引证文献8

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部