第十九讲 真空溅射镀膜

（接2016年第5期第82页） 普通磁控溅射靶的磁场集中在靶面附近（见图64a）,靶的磁场将等离子体紧密地约束在靶面附近,而基片附近的等离子体很弱,基片不会受到离子和电子较强的轰击。而非平衡磁控溅射阴极的磁场大量向靶外发散（见图64b）,非平衡磁控溅射阴极的磁场可将等离子体扩展到远离靶面处,使基片浸没其中。