期刊文献+

中科院阻变存储器高密度集成研究获进展

下载PDF
导出
摘要 中国科学院微电子研究所的研究人员在阻变存储器(RRAM)高密度集成研究方面取得新进展,提出了一种与互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺完全兼容、具有高均一性的高性能选通器件,为两端结构电阻型存储器的高密度三维集成提供了解决方案。
作者 叶瑞优
出处 《军民两用技术与产品》 2017年第1期25-25,共1页 Dual Use Technologies & Products
  • 相关文献

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部