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无钯沉铜新思路

New concept of electroless copper plating without palladium catalyst
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摘要 无钯沉铜的最大特点是采用Cu^(3+)离子作活化剂,这可缩短生产周期和生产成本,是一种很有发展前途的新工艺。 Electroless Copper Plating without Palladium Catalyst is upgrade version of It has an obvious characteristic to adopt tri-valence cuprous ion as activator. This technology can period and production cost. It is a kind of new technique which has been developed. conventional PTH. shorten production
作者 邬通芳 张卫 刘镇权 吴培常 WU Tong-fang ZHANG Wei LIU Zhen-quan WU Pei-chang
出处 《印制电路信息》 2017年第2期23-30,52,共9页 Printed Circuit Information
关键词 无钯沉铜 混合电位 组装 Electroless Copper Plating Without Palladium Catalyst Mix Potential Microassembly
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