高增益参量过程中相干态和真空态输入下的干涉光刻研究

利用高增益参量放大器研究相干态和真空态输入下的干涉光刻性能。研究发现:相干态输入将降低光刻曝光函数的分辨率,而输入相干态的振幅和相位可以对干涉条纹可见度进行有效调控,尤其,增强相干光束的强度可以将可见度提高至接近100%。最后,详细讨论了相干态输入下的光刻分辨率未能打破瑞利衍射极限的可能原因。