玻璃专利

在玻璃基板上沉积二氧化硅涂层的化学气相沉积工艺 公开（公告）号：CN104136656B 公开（公告）日：2016．11．09 申请（专利权）人：皮尔金顿集团有限公司 本发明提供用于沉积二氧化硅涂层的CVD工艺。该工艺包括提供玻璃基板。该工艺还包括形成气态混合物，该气态混合物包括硅烷化合物、氧、含氟化合物和诸如乙烯或丙烯的自由基清除剂。