专利名称：一种基于氯化钠模板的二硫化钼纳米片制备方法

本发明涉及一种基于氯化钠模板的二硫化钼纳米片制备方法,包括：以钼酸铵、钼酸钠中的一种或两种混合物为钼源,以硫脲为硫源,按钼源中的钼、硫源中的硫摩尔比为1：（1.8~2.5）,并按钼源中的钼与NaCl的摩尔比为1：（150~600）计,将钼源、硫源和NaCl加入去离子水中溶解。