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稀有气体氟化物离子准分子发射谱观察
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摘要
离子准分子XUV/VUV跃近遵循下过程:Y<sup>++</sup>X<sup>-</sup>→Y<sup>+</sup>+X<sup>+</sup>hv(XUV/VUV) 但是稀有气体卤化物离子准分子的研究很少。我们首先利用了修正的Ritlner势和高斯80程序计算了势能曲线和受激发射截面σ<sub>st</sub>等。
作者
王骐
周赤
马祖光
机构地区
哈尔滨工业大学
出处
《光电子.激光》
EI
CAS
CSCD
北大核心
1993年第3期166-166,共1页
Journal of Optoelectronics·Laser
关键词
稀有气体
离子准分子
受激发射截面
势能曲线
程序计算
准分子发射谱
氟化物
卤化物
激光功率密度
激光产生
分类号
O4 [理学—物理]
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光电子.激光
1993年 第3期
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