钇改性离子镀TiN膜的微观特性和附着机理

离子镀氮化钛(TiN)膜的应力状态和膜/基之间界面结构直接影响到涂层与基材的附着性。为了弄清涂层内部应力及界面结构对膜/基附着性的影响机理,人们对涂层自身应力和膜/基界面进行了一些相关的研究工作。我们通过添加钇离子镀TiN膜,借助钇的界面富集和改性作用,极大改善了TiN膜与基材的附着性。本文采用X射线线形分析法和透射电子显微镜(TEM)分析术,研究钇改性前后TiN膜内部微观应力和钇改性TiN膜[以Ti(Y)N表示]与A3钢基材界面的微观结构,从而探讨了涂层内部的微观应力和膜/基界面结构对其附着性的影响机理。