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ICP-AES法测定硅铁中Si、Al的试验研究 被引量:1

Study on content mesurement of Si、Al in silicon iron by ICP-AES method
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摘要 采用电感耦合等离子体发射光谱法对硅铁中硅 ,铝的分析方法进行了试验研究 ,重点研究了内标试验、空白试验及第三元素干扰试验 ,通过试验找到了一个分析硅铁的准确可靠的方法 ,该方法灵敏度及准确度高 ,操作简便、快速。 The analyzing method for measuring Si,Al elements in silicon iron are studied by using inductance coupling plasma emission spectrum instrument.Stress research test interior standard,test blank and interfere,a kind of accurate and reliable method for analyzing silicon iron is achieved which has the advantages of high responsiveness,high accuray,simple and rapid operation.
作者 张兴梅
出处 《哈尔滨商业大学学报(自然科学版)》 CAS 2002年第4期470-471,共2页 Journal of Harbin University of Commerce:Natural Sciences Edition
关键词 ICP-AES 硅铁 内标 干扰 ICP-AES Ni alloy interior standard interfere leave peak
  • 相关文献

参考文献2

  • 1中国标准出版社第二编辑室、黑色冶金工业标准汇编.钢铁及铁合金化学分析方法[M].北京:中国标准出版社,1994.
  • 2WINGE R.K.著,钱国贤译.电感耦合等离子体发射光谱图册[M].北京:中国光学学会光谱学会,1986.

同被引文献24

二级引证文献1

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