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美国实现1nm制程工艺 突破半导体工艺极限
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摘要
美国能源部(DOE)下属布鲁克海文国家实验室的研究人员采用电子束印刷工艺,成功制造出了尺寸仅1nm的印刷设备,创造了新的世界纪录。
作者
美国
出处
《军民两用技术与产品》
2017年第11期25-25,共1页
Dual Use Technologies & Products
关键词
美国能源部
半导体工艺
制程工艺
极限
国家实验室
印刷工艺
研究人员
印刷设备
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
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军民两用技术与产品
2017年 第11期
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