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美国实现1nm制程工艺 突破半导体工艺极限

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摘要 美国能源部(DOE)下属布鲁克海文国家实验室的研究人员采用电子束印刷工艺,成功制造出了尺寸仅1nm的印刷设备,创造了新的世界纪录。
作者 美国
出处 《军民两用技术与产品》 2017年第11期25-25,共1页 Dual Use Technologies & Products
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