期刊文献+

用磁控溅射法制备软X射线多层膜 被引量:4

Soft X-ray Multilayer Fabrication by Magnetron Sputtering
下载PDF
导出
摘要 本文介绍用直流-射频平面磁控溅射法制备软x射线多层膜的初步实验结果。在一定工艺条件下,采用计算机定时控制膜厚的方法,严格按照设计周期制备了多层膜样品,并给出了X射线衍射仪小角衍射的检测结果。 The preliminary experiment of fabricating soft X-ray multilayer by DC-RF planar mag-netron sputtering is described. Under appropriate working conditions,multilayers can be au-tomatically deposited according to designed period (thickness)using computer controlledtiming method. The results of X-ray small angle diffraction show that the film thickness ac-curacv is about 0.1nm.
出处 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 1995年第1期16-20,共5页 Optics and Precision Engineering
基金 国家自然科学基金及国家高技术863-410-3专题的资助
关键词 磁控溅射 软X射线多层膜 制备 Magnetron sputtering,Soft X-ray multilayer
  • 相关文献

参考文献1

二级参考文献2

共引文献9

同被引文献14

  • 1邵建达,范正修,王桂英,丁志华.多层膜结构和界面分析应用中的高分辨率透射电镜剖面分析[J].中国激光,1994,21(6):457-462. 被引量:4
  • 2林景全.低碎屑激光等离子体软X射线源研究[M].中科院长春光机所,1999..
  • 3曹健林.软X射线光学常数测定及多层膜反射镜的设计、制度[M].长春:中科院长春光机所,1989..
  • 4YANG Jiamin, XU Yan, DING Yaonan, et al. Rosseland mean opacity of a high-Z mixture plasma[J]. Chin Phys Lett, 2003, 20(2): 256-258.
  • 5ORZECHWSKI T J, KORNBLUM H N, WALLACE R J, et al. The rosseland mean opacity of a composite material at high temperatures,UCRL-LR-105821-97-1 [R]. California, USA: VCRL, 1997.
  • 6唐伟忠.薄膜材料制备原理、技术及应用[M].北京:冶金工业出版社,2001.
  • 7田民波.薄膜科学与技术手册[M].北京:机械工业出版社,1991.3.
  • 8Diehl P E, Mark W Lund, Madsen D W, et al. Characterization of WCx/B4C multilayers sputtered in reactive argon/methane atmospheres [J]. Thin Solid Films, 1994,239:57.
  • 9Seino T, Sato T. Aluminum oxide films deposited in low pressure conditions by reactive pulsed dc magnetron sputtering [J].J Vac Sci Techn, 2002,A20(3) :634.
  • 10高宏刚,陈斌,张俊平,曹健林.亚纳米量级光滑表面的超精密抛光[J].仪器仪表学报,1997,18(1):75-79. 被引量:9

引证文献4

二级引证文献1

相关作者

内容加载中请稍等...

相关机构

内容加载中请稍等...

相关主题

内容加载中请稍等...

浏览历史

内容加载中请稍等...
;
使用帮助 返回顶部